Hvorfor skal ioneviftebeskyttelse brukes i produksjonsverkstedet til elektronisk fabrikk?
Elektroniske produkter er truet av elektrostatiske skader i hele prosessen fra produksjon til bruk. Fra enhetsproduksjon til plug-in lodding, komplett maskinmontering, pakking og transport, og produktapplikasjon, er de alle truet av statisk elektrisitet. I hele produksjonsprosessen for elektroniske produkter, hvert lite trinn i hvert trinn, kan elektrostatisk sensitive komponenter bli påvirket eller skadet av statisk elektrisitet, men faktisk er det viktigste og lett oversett punktet overføringen og transporten av komponenter prosessen med. I denne prosessen blir transport skadet på grunn av statisk elektrisitet som lett utsettes for eksterne elektriske felt (som passering i nærheten av høyspentutstyr, hyppig bevegelse av arbeidere, rask bevegelse av kjøretøy osv.), så spesiell oppmerksomhet bør rettes mot transport- og transportprosessen for å redusere skader.
Tre situasjoner kan påvirke elektroniske komponenter som følger:
1. Komponentene absorberer støv, endrer impedansen mellom linjene, og påvirker funksjonen og levetiden til komponentene.
2. På grunn av det elektriske feltet eller strømmen som ødelegger elementets isolasjonslag og leder, kan ikke elementet fungere (helt ødelagt).
3. På grunn av det øyeblikkelige elektriske feltets myke sammenbrudd eller overoppheting av strømmen, er komponenten skadet, selv om den fortsatt kan fungere, men dens levetid er skadet. I de tre ovennevnte tilfellene, hvis komponenten er fullstendig skadet, kan den oppdages og elimineres i produksjons- og kvalitetstesten, og virkningen er mindre. Hvis komponenten er litt skadet, er den ikke lett å finne under normal testing. I dette tilfellet viser det seg ofte at den er skadet etter mange gangers behandling, selv når den er i bruk. Ikke bare er det vanskelig å inspisere, men også tapet er vanskelig å forutse. Skaden forårsaket av statisk elektrisitet på elektroniske komponenter er ikke mindre enn tapet av alvorlige brann- og eksplosjonsulykker.